台积电张忠谋惨遭打脸!国产光刻机迎重大突破:7nm国产芯指日可待

相信大家都知道,美国近日又对华为海思半导体芯片颁发了全新的“禁售新规”,对此很多公司都纷纷开始和华为‘撇清’关系,而面对网络上肆虐的“谣言”,甚至直接逼迫台积电、联发科等官方紧急出面辟谣,而这些虚假报道绝大部分都来自于日媒《日经中文网》的报道,从目前情况来看,华为确实要面对很多非常棘手的问题,除了要因对谷歌的“系统服务”断供以外,同时还要面临更多的芯片元器件产品断供,虽然华为拥有全球顶尖的芯片设计能够力,从手机SOC芯片,到WIFI芯片、射频芯片等等,几乎所有手机核心元器件都在努力实现国产化,但由于华为并不具备芯片制造能力,所以目前绝大部分芯片都由台积电、中芯国际所代工生产。

台积电张忠谋惨遭打脸!国产光刻机迎重大突破:7nm国产芯指日可待插图

但在受到美国“禁令新规”影响下,或许在120天缓冲期结束后,台积电、中芯国际等芯片代工巨头都将无法继续为华为提供先进的芯片代工技术,就连很多消费者寄予厚望的中芯国际,似乎也不太给力,中芯国际在最近公布的招股书中表示:“由于公司若干半导体设备、技术都来自于美国,所以在获得美国商务部许可之前,将无法为若干客户进行生产制造产品。”毫无疑问,这个“若干客户”就包含华为海思半导体在内。

确实如果中芯国际继续为华为提供芯片代工技术,那么中芯国际或许也将会彻底和美国撕破脸皮,而无法继续获得美国半导体设备以及相关元器件、技术等等,而对于目前国产芯片产业“困境”,最急需迫切解决的就是国产光刻机设备,因为目前国产芯片产业链最为依赖的就是ASML高端光刻机设备,但对于国产芯片制造升级转型,此前台积电创始人张忠谋也是放出狠话:“芯片业务很复杂,不是大陆花很多钱、投入举国之力就能够成的,所以大陆在半导体制造方面并不容易超越”。

但现实答案很也是狠狠扇了台积电张忠谋一巴掌,惨遭打脸的张忠谋,或许从未想过,国产光刻机设备竟然能够迎来如此重大的突破,根据最新消息显示,上海微电子将会在一年内正式交付首台28nm的光刻机设备。

或许很多网友们在听到28nm制程工艺后,也会纷纷感叹这样的芯片制造工艺放在智能手机芯片上,早已经“过时了”,确实目前就连低端手机都已经开始采用14nm、12nm制程工艺的芯片,但实际这台即将在年底下线的上海微电子SSA/800-10W光刻机,会采用套刻精度则在1.9nm左右的ArF光源,单次曝光可直接实现28nm制程(软件操作界面),多次曝光下更是能够实现11nm制程工艺的芯片生产,如果改用套刻精度更优的华卓精科工作台(1.7nm),在多重曝光下更是能够实现7nm制程工艺的芯片生产;这也意味着7nm制程工艺芯片,也将会得到更大的应用,被应用于智能手机、智能手表、电视芯片、路由器、5G基站等方面,都是没有任何问题的。

写在最后:或许很多网友都未曾想到,在前几年时间里,国内的光刻机技术一直都停留在90nm制程工艺技术上,没想到现在竟然迎来了跨越式崛起,同时上海微电子还对外表示将会力挺中芯国际和华为,这意味着在得到上海微电子、中芯国际的大力支持下,华为海思半导体芯片业务“断供”问题,也将会彻底的得到解决;对于国产光刻机设备所取得进步,以及惨遭打脸的台积电张忠谋的一番言论。

来源:数码科技大爆炸

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